方管抛光机的基本性质
方管抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至出现黑斑,轻合金则会抛伤表面。
方管抛光机对于一些金属表面如果存在锈迹或氧化膜,应先行除净,否则会带进抛光机液中,不但消耗大量全全自动抛光机溶液、毒化和缩短溶液的使用寿命,而且会延长抛光时间,影响抛光机质量。表面除锈的方法大致与除油方法相似,也有手工法、化学法、电化学和超声波法等种方法供选择使用。